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소식INSTITUTE OF TECHNOLOGY VALUE CREATION

ITVC 소식

(주)디엔에프(입주기업) [57 호]
  • 작성자운영자
  • 작성일2007.08.13 11:24
  • 조회수21362
(주)디엔에프
(주)디엔에프(대표 김명운)는 유기금속화합물인 ALD/CVD 전구체를 개발하고 의뢰기업에 관련 솔루션을 제공하는 전자화학소재 벤처이다. ALD/CVD 전구체는 반도체나 디스플레이에 핵심소재로 이용되는 물질이다. 디엔에프는 KAIST 내의 사무실에서 창업을 시작했으며 현재 대전광역시 신탄진 3공단에 있다.
디엔에프는 “전방산업인 반도체와 디스플레이 산업이 혁신적인 발전을 거듭할 수 있도록 전자화학소재 기술 분야에서 글로벌 리딩기업으로의 성장”을 자신의 비전으로 내세운다. 2001년 세워진 디엔에프는 설립 초기부터 중소기업기술혁신개발사업이나 과기부의 연구지원성과사업 등 여러 사업의 과제로 선정되었며 제3회 창업보육센터 입주기업 경연대회에서 입상을 하기도 했다. 2006년에는 기술혁신 사업화 대상 ‘최우수상’을 수상했다. 최근에는 해외 영업팀을 강화해 일본 대기업과 대량 납품 계약을 체결하기도 했다. 2006년에는 약 55억 원 가량의 당기 순이익을 달성했다.
디엔에프의 제품은 크게 두 개 분야로 나눠져 소개된다. 하나는 반도체용 ALD/CVD 전구체와 화합물 반도체용 재료를 가리키는 전자재료부문과 유기금속 반응제, 귀금속 촉매 등을 말하는 정밀화학부문이다.
반도체용 ALD/CVD 전구체는 디엔에프의 대표적 제품 중 하나이다. 특히 디엔에프는 반도체에 사용되는 이산화규소를 대체하기 위한 high-k aid sources 개발에 힘쓰고 있다. high-k aid sources는 높은 유전상수를 갖는 물질을 가리킨다. 이를 통해 트랜지스터의 크기를 줄이면서 성능은 유지할 수 있게 된다.
디엔에프의 전자재료상품 중 또 하나인 CVD/ALD source는 전자기판의 제작 기술인 CVD나 ALD에 사용되는 source를 가리킨다. CVD나 ALD는 기판 표면에 원료물질을 덮어 막을 형성하는 과정을 말한다. CVD는 화학물질을 포함하는 가스를 열이나 빛, 고주파를 통해 플라즈마 상태로 만들어 기판 위에 용이하게 흡착, 퇴적시키는 기술이다. 반면 ALD는 각 반응물질을 분리해 펄스 형태로 공급하게 된다. 이때 흡착과 탈착은 반응물질의 자기제어 반응을 이용한다.
아울러 디엔에프는 두 종류 이상의 원소 화합물로 만들어지는 화합물 반도체용 재료 개발에도 힘쓰고 있다. 이러한 재료는 발광다이오드, 반도체 레이저, 고자파 발진소자 제작에 이용된다.
총 4종의 특허를 가지고 있는 디엔에프는 지금도 관련 재료 연구와 개발에 힘쓰고 있다. LED 소재인 트라이메틸갈륨(TMG) 국산화에 성공한 디엔에프는 유기금속 화합물이나 반도체, 디스플레이용 차세대 재료의 설계, 제조 기술을 자신들의 핵심 기술로 내세운다. 특히 중소기업답게 여러 품종을 소량생산 하는 등 의뢰기업의 필요를 충분히 수용할 수 있는 특성을 가지고 있다.

<업체 프로필>
- 대표이사 : 김명운
- 설립시기 : 2001년 1월
- 직원 수 : 106명
- 주소 : 대전광역시 대덕구 문평동 49-7번지
- 전화번호 : 042-932-7939
- 홈페이지 : http://www.dnfsolution.com/
- KAIST와의 관계 : KAIST 산학협력단 입주기업
- KAIST 산학협력단 입주일자 : 2001. 4. 16
<업체 프로필>
- 대표이사 : 김명운
- 설립시기 : 2001년 1월
- 직원 수 : 106명
- 주소 : 대전광역시 대덕구 문평동 49-7번지
- 전화번호 : 042-932-7939
- 홈페이지 : http://www.dnfsolution.com/
- KAIST와의 관계 : KAIST 산학협력단 입주기업
- KAIST 산학협력단 입주일자 : 2001. 4. 16