액정 광배향막 및 이의 제조방법 [58 호]
- 작성자운영자
- 작성일2007.09.12 19:28
- 조회수27599
Liquid crystal alignment layer and manufacturing methodthereof발명의 명칭 : 액정 광배향막 및 이의 제조방법
(Liquid crystal alignment layer and manufacturing methodthereof)
o 발명자 : 박정기, 성시준, 조기윤, 하현대, 김원선
o 등록번호 및 일자 : 10-0746331-0000 (2007.07.30)
o 요약문 : 본 발명은 액정 광배향막 및 이의 제조방법에 관한 것으로서 보다 상세하게는 액정 광배향막 제조에 있어서, 광반응성 고분자를 가소제와 반응시킴으로써 광반응성 고분자의 유연성을 유도하고 자외선 조사와 열처리에 의해 액정 배향의 열적 안정성을 향상시킬 수 있는 액정 광배향막의 제조방법과 동 방법에 의해 제조한 액정 배향막에 관한 것이다.
본 발명은 액정 광배향막의 제조에 있어서,
광반응성 고분자와 광반응성 중량 대비 50∼500％의 가소제를 유기용매에 용해시키는 단계,
유기용매에 용해된 광반응성 고분자와 가소제의 혼합물을 유리판 위에 코팅하는 단계,
기판을 열처리하여 막을 얻는 단계,
수득한 막에 자외선을 조사하여 단계를 포함하는 액정 광배향막의 제조방법을 나타낸다.
o 대표청구항 : 액정 광배향막의 제조에 있어서,하기 (A) 또는 (B)의 광반응성 고분자와 가소제로서 에틸 시나메이트를 광반응성 고분자 중량 대비 50∼500％으로 유기용매에 용해시키는 단계,유기용매에 용해된 광반응성 고분자와 가소제의 혼합물을 유리판 위에 코팅하는 단계,기판을 열처리하여 막을 얻는 단계, 및수득한 막에 자외선을 조사하는 단계를 포함하는 액정 광배향막의 제조방법.(A) : 시나몰 클로라니드, 폴리비닐시나메이트, 폴리알콕시시나메이트(알콕시기는 탄소수 1∼20개), 폴리비닐불소화시나메이트, 폴리비닐알콕시불소화시나메이트(알콕시기는 탄소수 1∼20개), 7-하이드록시쿠마린, 7-(2-하이드록시에톡시)쿠마린, 7-(6-하이드록시헥실옥시)쿠마린 중에서 선택된 어느 하나 이상의 광반응성 고분자.(B) : 시나몰 클로라니드, 폴리비닐시나메이트, 폴리알콕시시나메이트(알콕시기는 탄소수 1∼20개), 폴리비닐불소화시나메이트, 폴리비닐알콕시불소화시나메이트(알콕시기는 탄소수 1∼20개) 중에서 선택된 어느 하나 이상의 시나메이트계 고분자 10∼90중량％와 폴리(4,4'-(헥사플루오로아이소프로필리덴)다이프탈릭안하이드라이드-3,5-다이아미노벤조산), 폴리(피로멜리틱디안하이드라이드-3,5-다이아미노벤조산), 폴리(1,2,3,4-시클로부탄테트라카르복실산-3,5-다이아미노벤조산), 폴리(2,2-비스(3,4-디카르복실페닐)헥사플루오로프로판디안하이드라이드-3,5-다이아미노벤조산), 폴리(피로멜리틱디안하이드라이드-4,4'-옥시디아민, 폴리(피로멜리틱디안하이드라이드-2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]-헥사플루오로프로판), 폴리(피로멜리틱디안하이드라이드-2,2-비스(4-아미노페녹시페닐)프로판), 폴리(1,2,3,4-시클로부탄테트라카르복실산-4,4'-옥시디아민), 폴리(1,2,3,4-시클로부탄테트라카르복실산-2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]-헥사플루오로프로판), 폴리(1,2,3,4-시클로부탄테트라카르복실산-2,2-비스(4-아미노페녹시페닐)프로판), 폴리(2,2-비스(3,4-디카르복실페닐)헥사플루오로프로판디안하이드라이드-4,4'-옥시디아민), 폴리(2,2-비스(3,4-디카르복실페닐)헥사플루오로프로판디안하이드라이드-2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]-헥사플루오로프로판), 폴리(2,2-비스(3,4-디카르복실페닐)헥사플루오로프로판-디안하이드라이드-2,2-비스(4-아미노페녹시페닐)프로판) 중에서 선택된 어느 하나 이상의 폴리이미드계 고분자 10∼90중량％로 블렌드된 광반응성 고분자.
o 대표도면 :
(Liquid crystal alignment layer and manufacturing methodthereof)
o 발명자 : 박정기, 성시준, 조기윤, 하현대, 김원선
o 등록번호 및 일자 : 10-0746331-0000 (2007.07.30)
o 요약문 : 본 발명은 액정 광배향막 및 이의 제조방법에 관한 것으로서 보다 상세하게는 액정 광배향막 제조에 있어서, 광반응성 고분자를 가소제와 반응시킴으로써 광반응성 고분자의 유연성을 유도하고 자외선 조사와 열처리에 의해 액정 배향의 열적 안정성을 향상시킬 수 있는 액정 광배향막의 제조방법과 동 방법에 의해 제조한 액정 배향막에 관한 것이다.
본 발명은 액정 광배향막의 제조에 있어서,
광반응성 고분자와 광반응성 중량 대비 50∼500％의 가소제를 유기용매에 용해시키는 단계,
유기용매에 용해된 광반응성 고분자와 가소제의 혼합물을 유리판 위에 코팅하는 단계,
기판을 열처리하여 막을 얻는 단계,
수득한 막에 자외선을 조사하여 단계를 포함하는 액정 광배향막의 제조방법을 나타낸다.
o 대표청구항 : 액정 광배향막의 제조에 있어서,하기 (A) 또는 (B)의 광반응성 고분자와 가소제로서 에틸 시나메이트를 광반응성 고분자 중량 대비 50∼500％으로 유기용매에 용해시키는 단계,유기용매에 용해된 광반응성 고분자와 가소제의 혼합물을 유리판 위에 코팅하는 단계,기판을 열처리하여 막을 얻는 단계, 및수득한 막에 자외선을 조사하는 단계를 포함하는 액정 광배향막의 제조방법.(A) : 시나몰 클로라니드, 폴리비닐시나메이트, 폴리알콕시시나메이트(알콕시기는 탄소수 1∼20개), 폴리비닐불소화시나메이트, 폴리비닐알콕시불소화시나메이트(알콕시기는 탄소수 1∼20개), 7-하이드록시쿠마린, 7-(2-하이드록시에톡시)쿠마린, 7-(6-하이드록시헥실옥시)쿠마린 중에서 선택된 어느 하나 이상의 광반응성 고분자.(B) : 시나몰 클로라니드, 폴리비닐시나메이트, 폴리알콕시시나메이트(알콕시기는 탄소수 1∼20개), 폴리비닐불소화시나메이트, 폴리비닐알콕시불소화시나메이트(알콕시기는 탄소수 1∼20개) 중에서 선택된 어느 하나 이상의 시나메이트계 고분자 10∼90중량％와 폴리(4,4'-(헥사플루오로아이소프로필리덴)다이프탈릭안하이드라이드-3,5-다이아미노벤조산), 폴리(피로멜리틱디안하이드라이드-3,5-다이아미노벤조산), 폴리(1,2,3,4-시클로부탄테트라카르복실산-3,5-다이아미노벤조산), 폴리(2,2-비스(3,4-디카르복실페닐)헥사플루오로프로판디안하이드라이드-3,5-다이아미노벤조산), 폴리(피로멜리틱디안하이드라이드-4,4'-옥시디아민, 폴리(피로멜리틱디안하이드라이드-2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]-헥사플루오로프로판), 폴리(피로멜리틱디안하이드라이드-2,2-비스(4-아미노페녹시페닐)프로판), 폴리(1,2,3,4-시클로부탄테트라카르복실산-4,4'-옥시디아민), 폴리(1,2,3,4-시클로부탄테트라카르복실산-2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]-헥사플루오로프로판), 폴리(1,2,3,4-시클로부탄테트라카르복실산-2,2-비스(4-아미노페녹시페닐)프로판), 폴리(2,2-비스(3,4-디카르복실페닐)헥사플루오로프로판디안하이드라이드-4,4'-옥시디아민), 폴리(2,2-비스(3,4-디카르복실페닐)헥사플루오로프로판디안하이드라이드-2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]-헥사플루오로프로판), 폴리(2,2-비스(3,4-디카르복실페닐)헥사플루오로프로판-디안하이드라이드-2,2-비스(4-아미노페녹시페닐)프로판) 중에서 선택된 어느 하나 이상의 폴리이미드계 고분자 10∼90중량％로 블렌드된 광반응성 고분자.
o 대표도면 :