플라즈마는 반도체, 디스플레이, MEM 등의 정보통신(IT) 분야 등을 비롯하여
나노(NT) 분야, 환경(ET)분야 등에 이르기까지 다양한 분야로 응용이 확대되고
있으며 앞으로 기술이 고도화됨에 따라 그 활용성과 시장성이 크게 성장할 것
으로 기대되는 분야입니다.

이렇듯 플라즈마의 상업적 이용가치는 무궁무진하지만, 아직까지 한정된 분야에서
만 사용되어지고 있으며 이에 10년이상 세계의 기술을 함께 해 온 플라즈마 전문가
들이 이제까지 쌓아 온 노하우를 바탕으로 미래에는 세계 플라즈마 시장을 선도할
기업으로 도약하고자 합니다.

연혁
2000.04 (주)플라즈마트 설립

2001.05 (주)플라즈마트 기업부설연구소 설립
2001.11 청정 생산기술 개발 주관기업 선정<산업자원부>
2001.12 병역 특례 지정 업체 선정

2002.02 ISO9001 인증 획득
2002.07 전경련<벤처기업 등급 평가> 우수기업 선정
INNO-BIZ(기술혁신기업) 선정<중소기업청>
2002.08 대전시 유망중소기업 선정

2004.04 플라즈마 계측기(Double Langmuir Probe System) KT Mark 인증획득
2004.08 수출유망중소기업 선정(중소기업수출지원센터)
2004.11 산자부 부품 소재 과제 공동개발기업 선정

2005.09 시스템IC2010개발사업 주관기업 선정<산업자원부>

2006.08 특허 등록 13건, 출원 13건, 실용신안등록 1건, PCT 출원 2건 <2006.8월 현재>
2006.10 테크노밸리 공장 및 사옥 입주예정

2007.01 Digital type의 RF Autp matching Network(PathFinder)개발
Plasma Monitoring System(NIEA)개발
Arc Detector개발

기술현황

인증 및 특허현황

플라즈마 소스기술 관련 특허등록 13건, 실용신안등록 1건, 국내특허출원 8건, 해외출원(PCT 출원) 7건

대표적인 제품소개

아크의 실시간 감시, 동시 측정 및 판독, 미세 아크 측정등이 가능하다.

실시간 감시
- 일정 시간 간격마다 신호를 측정하는 독자 개발된 High Resolution 검출 기법을 통해 빠짐없이 아크 검출
- 아크 신호뿐만 아니라 전극에 인가되는 전압 및 전류 측정

동시 측정 및 판독
- 측정 후 분석 방식이 아니며 아크 발생 즉시 신호가 검출되므로 즉각 적인 대처 가능

미세 아크 측정
- 다른 아크 Detector 보다 Impedance Matching 특성에 영향을 주지 않는 미세 아크 측정
- Impedance Matching 특성 변화 및 영구적인 파트 손상을 야기하는 대형 아크의 경우 미세 아크 측정과 독립적으로 측정

*Arc Detector의 장점
- Chamber 내에서 발생하는 Arc나 전압, 전류를 Monitor하여 장비 Maintenance 주기와 Life Time을 연장.
- 향 후 큰 문제가 나타나기 전에 조기 파악하여 장비의 Maintenance 비용 절감.
- Chamber의 추가 가공이 필요 없고 Matcher 내부에 설치 가능.
- 기존의 Plasma 감시 장치 보다 Signal Noise Ratio & Resolution이 우수.

<업체 프로필>
- 대표이사 이용관
- 설립시기 : 2000년 4월
- 사업분야 : 플라즈마의 반도체, 디스플레이, MEM 등의 IT 분야와 NT, ET 분야의 응용
- 주소 : 305-500 대전광역시 유성구 용산동 대덕테크노밸리 543번지
- 전화번호 : 042) 934-2545,2546,2547
- 팩스 : 042) 934-2524
- 홈페이지 : http://www.plasmart.com
- KAIST와의 관계 : KAIST 산학협력단 졸업기업
- 카이스트 산학협력단 입주기간 : 2001.7.1 ~ 2006.11.17