광가교 가능한 콜로이드 입자를 이용한 다차원 나노패턴형성방법 [59 호]
- 작성자운영자
- 작성일2007.10.09 23:19
- 조회수26722
Two-dimensional hierarchical nanopatterning bycolloidal lithography using photocrosslinkableparticle발명의 명칭 : 광가교 가능한 콜로이드 입자를 이용한 다차원 나노패턴형성방법
(Two-dimensional hierarchical nanopatterning bycolloidal lithography using photocrosslinkableparticles)
o 발명자 : 문준혁, 장세규, 임종민, 양승만
o 등록번호 및 일자 : 10-0746332-0000 (2007.07.30)
o 요약문 : 본 발명은 광가교 가능한 콜로이드 입자를 이용한 다차원 나노패턴 형성방법에 관한 것으로 보다 상세하게는 광가교가 가능한 콜로이드 입자를 기판에 도포한 후 콜로이드 입자에 선택적으로 광가교를 시키고 가열한 후 기판을 식각하여 선택적으로 나노패턴을 형성하는 방법에 관한 것이다.
본 발명의 광가교 가능한 콜로이드 입자를 이용한 나노패턴 형성방법은
광가교 가능한 콜로이드 입자를 기판에 자가배열 시키는 단계,
광가교 가능한 콜로이드가 배열된 기판 위에 마스크를 구비하고 선택적으로 광을 조사한 후 기판을 가열하여 가교되지 않은 콜로이드 입자를 변형시키는 단계,
콜로이드 입자를 변형시킨 후 기판을 식각한 다음 고분자 콜로이드 입자를 제거하는 단계를 포함하도록 하여 기판에 선택적인 부분에만 나노패턴을 형성할 수 있다.
o 대표청구항 : 하기 A로 표시되는 단량체와 B로 표시되며 에폭시기를 함유하는 단량체로 이루어지며 광가교 개시제를 포함하는 콜로이드 입자 공중합체인 광가교 가능한 콜로이드 입자를 기판에 자가배열 시키는 단계,광가교 가능한 콜로이드가 배열된 기판 위에 마스크를 구비하고 선택적으로 광을 조사한 후 기판을 가열하여 가교되지 않은 콜로이드 입자를 변형시키는 단계,콜로이드 입자를 변형시킨 후 기판을 식각한 다음 고분자 콜로이드 입자를 제거하는 단계를 포함함을 특징으로 하는 광가교 가능한 콜로이드 입자를 이용한 다차원 나노패턴 형성방법.A : 메틸 아크릴레이트(METHYL ACRYLATE), 에틸 아크릴레이트(ETHYL ACRYLATE), 부틸 아크릴레이트(BUTYL ACRYLATE), 헥실 아크릴레이트(HEXYL ACRYLATE), 에틸헥실 아크릴레이트(ETHYLHEXYL ACRYLATE), 옥틸 아크릴레이트(OCTYL ACRYLATE), 라우릴 아크릴레이트(LAURYL ACRYLATE), 옥타데실 아크릴레이트(OCTADECYL ACRYLATE), 글리시딜 아크릴레이트(GLYCIDYL ACRYLATE) 중에서 선택된 어느 하나의 아크릴계 단량체, 메틸 메타크릴레이트(METHYL METHACRYLATE), 에틸 메타크릴레이트(ETHYL METHACRYLATE), 부틸 메타크릴레이트(BUTYL METHACRYLATE), 에틸헥실 메타크릴레이트(ETHYLHEXYL METHACRYLATE), 라우릴 메타크릴레이트(LAURYL METHACRYLATE), 옥타데실 메타크릴레이트(OCTADECYL METHACRYLATE), 벤질 메타크릴레이트(BENZYL METHACYLATE), 글리시딜 메타크릴레이트(GLYCIDYL METHACRYLATE) 중에서 선택된 어느 하나의 메타크릴레이트계 단량체, 스티렌, 염화스티렌, 브롬화스티렌 중에서 선택된 어느 하나의 스티렌계 단량체 또는 비닐아세테이트(VINYL ACETATE), 비닐피리딘(VINYL PYRIDINE) 중에서 선택된 어느 하나의 비닐계 단량체.B : 글리시딜 메타크릴레이트, 비스페놀 에이 에폭시 아크릴레이트(BISPHENOL A EPOXY ACRYLATE), 크레졸 노볼락 에폭시 아클릴레이트(CRESOL NOVOLAC EPOXY ACRYLATE), 글리시딜 아크릴레이트(GLYCIDYL ACRYLATE) 중에서 선택된 어느 하나의 단량체.
o 대표도면 :
(Two-dimensional hierarchical nanopatterning bycolloidal lithography using photocrosslinkableparticles)
o 발명자 : 문준혁, 장세규, 임종민, 양승만
o 등록번호 및 일자 : 10-0746332-0000 (2007.07.30)
o 요약문 : 본 발명은 광가교 가능한 콜로이드 입자를 이용한 다차원 나노패턴 형성방법에 관한 것으로 보다 상세하게는 광가교가 가능한 콜로이드 입자를 기판에 도포한 후 콜로이드 입자에 선택적으로 광가교를 시키고 가열한 후 기판을 식각하여 선택적으로 나노패턴을 형성하는 방법에 관한 것이다.
본 발명의 광가교 가능한 콜로이드 입자를 이용한 나노패턴 형성방법은
광가교 가능한 콜로이드 입자를 기판에 자가배열 시키는 단계,
광가교 가능한 콜로이드가 배열된 기판 위에 마스크를 구비하고 선택적으로 광을 조사한 후 기판을 가열하여 가교되지 않은 콜로이드 입자를 변형시키는 단계,
콜로이드 입자를 변형시킨 후 기판을 식각한 다음 고분자 콜로이드 입자를 제거하는 단계를 포함하도록 하여 기판에 선택적인 부분에만 나노패턴을 형성할 수 있다.
o 대표청구항 : 하기 A로 표시되는 단량체와 B로 표시되며 에폭시기를 함유하는 단량체로 이루어지며 광가교 개시제를 포함하는 콜로이드 입자 공중합체인 광가교 가능한 콜로이드 입자를 기판에 자가배열 시키는 단계,광가교 가능한 콜로이드가 배열된 기판 위에 마스크를 구비하고 선택적으로 광을 조사한 후 기판을 가열하여 가교되지 않은 콜로이드 입자를 변형시키는 단계,콜로이드 입자를 변형시킨 후 기판을 식각한 다음 고분자 콜로이드 입자를 제거하는 단계를 포함함을 특징으로 하는 광가교 가능한 콜로이드 입자를 이용한 다차원 나노패턴 형성방법.A : 메틸 아크릴레이트(METHYL ACRYLATE), 에틸 아크릴레이트(ETHYL ACRYLATE), 부틸 아크릴레이트(BUTYL ACRYLATE), 헥실 아크릴레이트(HEXYL ACRYLATE), 에틸헥실 아크릴레이트(ETHYLHEXYL ACRYLATE), 옥틸 아크릴레이트(OCTYL ACRYLATE), 라우릴 아크릴레이트(LAURYL ACRYLATE), 옥타데실 아크릴레이트(OCTADECYL ACRYLATE), 글리시딜 아크릴레이트(GLYCIDYL ACRYLATE) 중에서 선택된 어느 하나의 아크릴계 단량체, 메틸 메타크릴레이트(METHYL METHACRYLATE), 에틸 메타크릴레이트(ETHYL METHACRYLATE), 부틸 메타크릴레이트(BUTYL METHACRYLATE), 에틸헥실 메타크릴레이트(ETHYLHEXYL METHACRYLATE), 라우릴 메타크릴레이트(LAURYL METHACRYLATE), 옥타데실 메타크릴레이트(OCTADECYL METHACRYLATE), 벤질 메타크릴레이트(BENZYL METHACYLATE), 글리시딜 메타크릴레이트(GLYCIDYL METHACRYLATE) 중에서 선택된 어느 하나의 메타크릴레이트계 단량체, 스티렌, 염화스티렌, 브롬화스티렌 중에서 선택된 어느 하나의 스티렌계 단량체 또는 비닐아세테이트(VINYL ACETATE), 비닐피리딘(VINYL PYRIDINE) 중에서 선택된 어느 하나의 비닐계 단량체.B : 글리시딜 메타크릴레이트, 비스페놀 에이 에폭시 아크릴레이트(BISPHENOL A EPOXY ACRYLATE), 크레졸 노볼락 에폭시 아클릴레이트(CRESOL NOVOLAC EPOXY ACRYLATE), 글리시딜 아크릴레이트(GLYCIDYL ACRYLATE) 중에서 선택된 어느 하나의 단량체.
o 대표도면 :